Salon de Oase
CNC TriHyal Resist Leave on Mask, 50ml
CNC TriHyal Resist Leave on Mask, 50ml
Kan beschikbaarheid voor afhalen niet laden
Beschrijving: Het unieke masker werkt als een schoonheidslaap voor de huid. De krachtige TriHyal actieve ingrediëntencombinatie van korte keten, lange keten en vertakt hyaluronzuur dempt droogheidsrimpels zichtbaar en voorziet de huid van intensief vocht. Het resultaat is een gladde, mollige, verfijnde en frisse teint. Het masker wordt volledig opgenomen in de huid.
Effect: De krachtige TriHyal actieve ingrediëntencombinatie van korte keten, lange keten en vertakt hyaluronzuur dempt droogheidsrimpels zichtbaar en voorziet de huid van intensief vocht. Het resultaat is een gladde, mollige, verfijnde en frisse teint. Het masker wordt volledig opgenomen in de huid.
Geschikt voor: De veeleisende, rijpere en regeneratieve huid.
Waarom heb ik het product nodig?
- Geëxpandeerde poriën zijn zichtbaar verkleind.
- Glad, mollig en frisse teint.
- Masker kan op de huid blijven en fungeren als een schoonheidsslaap gedurende de nacht.
- Kan ook worden gebruikt als nachtverzorging.
Ingrediënten: Aqua [Water], Butylene Glycol, Cetearyl Alcohol, Dicaprylyl Carbonate, Pentylene Glycol, Glyceryl Stearate, Steareth-21, Saccharide Isomerate, Tocopheryl Acetate, Theobroma Grandiflorum Seed Butter, Bisabolol, Sodium Hyaluronate, Fomes Officinalis (Mushroom) Extract, Ethylhexyl Stearate, Glyceryl Caprylate, Aloe Barbadensis Leaf Juice Powder, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Peg-40 Hydrogenated Castor Oil, Sodium Isostearate, Polyglyceryl-4 Diisostearate/Polyhydroxystearate/Sebacate, Lecithin, Ascorbyl Palmitate, Tocopherol, Tetrasodium Glutamate Diacetate, Sodium Hydroxide, Sodium Citrate, Citric Acid, Parfum [Fragrance], Carbomer, Phenoxyethanol, Ci 15 985 [Yellow 6].
Share
